来自希腊帕特雷的研究和技术基金会Hellas和希腊塞萨洛尼基亚里士多德大学的研究人员开发出一种在CVD生长的石墨烯中制造纳米孔的技术。该技术基于飞秒（fs）激光处理石墨烯。

希腊团队使用激光在石墨烯中钻孔

使用常规的干转移技术将CVD石墨烯置于Si / SiO 2上。然后，在空气中以高重复频率用80fs激光脉冲处理。通过将fs激光脉冲的束流聚焦到石墨烯上，形成圆形图案。

由于热和烧蚀效应的协同作用形成圆形图案，发生在不同的时间尺度并且影响高斯光束点内的石墨烯的不同区域。

消融效应破坏了石墨烯网络，形成直径范围从几纳米到70纳米的孔，比衍射极限低一个数量级。孔径和空气密度很大程度上取决于激光处理参数（激光波长，功率，聚焦和照射时间）。然而，由于fs激光的高重复率，热效应变得重要，导致消融区域周边区域的石墨烯膨胀。

通过调整聚焦，激光功率和曝光时间，可以实现纳米孔生产过程的优化。所提出的方法可以容易地按比例放大以产生从μm2到m2的各种面积尺度的多孔石墨烯膜，条件是转移的CVD石墨烯的质量是特殊的。