石墨烯和hBN用于开发2D RRAM存储器件 0 756 A+ 来自中国苏州大学的研究人员开发了一种基于石墨烯和六方氮化硼(hBN)片的二维RRAM器件结构。该器件采用石墨烯/ hBN /石墨烯结构,具有出色的整体贴合效果。这仍然只是一个理论模型,但它可能被证明是高性能RRAM设备的基础。(文章源于graphene-info网,由石墨烯材料网 www.91shimoxi.com 翻译编辑整理) 我的微信 关注我了解更多内容 上一篇石墨烯电极可以在分子电子器件中开辟新的路径 下一篇Skeleton在其新型超级电容器储能系统中使用弯曲石墨烯 文章导航 发表评论 取消回复 昵称* 目前评论:0
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